CM2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CMO2000系列錐體磨（膠體磨），它的創(chuàng)新設(shè)計使其功能在原有的CM2000系列膠體磨的基礎(chǔ)上又進了一步。由于這項創(chuàng)新，CMO2000系列錐體磨（膠體磨）能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比CM2000系列膠體磨還小，錐體磨（膠體磨）的研磨間隙可以無級調(diào)節(jié)，從而可以得到精確的研磨參數(shù)。

CMD2000系列改良型膠體磨，研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

CMSD系列，采用德國技術(shù)，設(shè)備轉(zhuǎn)速可高達14000rpm，是國產(chǎn)設(shè)備的4-5倍；磨頭結(jié)構(gòu)為三級錯齒，溝槽深度從上到下為由深到淺，溝槽的寬度也是從上到下為由大到小，這樣每級都會對物料更進一步的研磨粉碎。而國產(chǎn)膠體磨從上到下的寬度都是*的，所以研磨粉碎的效果很有限。IKN膠體磨采用德國博格曼雙端面機械密封，并配有機密冷卻系統(tǒng)，在確保冷卻水的情況下，可24小時連續(xù)生產(chǎn)。

CMXD系列采用圓椎形定轉(zhuǎn)子,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CM2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CMO2000實在CM2000基礎(chǔ)上的進一步優(yōu)化產(chǎn)品，有著更新的技術(shù)創(chuàng)新。錐形刀具間隙可調(diào)節(jié)至最小，來減小顆粒粒徑，從而可獲更細的懸浮液。由于這項創(chuàng)新，CMO2000系列錐體磨（膠體磨）能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比CM2000系列膠體磨還小。 錐體磨（膠體磨）的研磨間隙可以無級調(diào)節(jié)，從而可以得到精確的研磨參數(shù)。

研磨分散機是由膠體磨，分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，CMSD系列的線速度很高，剪切間隙非常小，凹槽在每級都可以改變方向；同時，高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料可滿足不同行業(yè)的多種要求。